在半导体等电子工业中，作为您称职的合作伙伴，上海元佳根据您对纯度的需求，通过多种供应模式，为清洗、成膜、刻蚀等生产工艺提供所需求的载气(H2, N2, O2, Ar, He...)以及电子特种气体(HCl, SiH4, N2O, BCl3...)
容器规格：47L、66L、Y-Cylinder（440L）、Tonner（944L）、Drum(1000L)、ISO(12MT/20MT)
阀门规格：DISS系列、CGA系列、Din系列
纯度：min. 99.999%
应用：
| HCl | 氯化氢 外延工艺用、清洁硅片表面减少缺陷，减少前工艺所引入的损伤。 |
| TCS | 三氯氢硅 外延工艺中作为硅源用于外延生长 |
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